Rituels Universels - Intensive Feuchtigkeitsmaske

Die Intense Moisture Mask ist eine Ergänzung zu Ihrer täglichen feuchtigkeitsspendenden Gesichtscreme.
1-2 Mal pro Woche anwenden. Bereiten Sie Ihre Haut vor dem Auftragen der Maske mit einem Peeling vor, um die Wirkung der Maske zu maximieren.

Tragen Sie eine haselnussgroße Menge der Maske in einer sehr dünnen Schicht auf Gesicht und Hals auf, vermeiden Sie dabei die Augenpartie. Lassen Sie die Maske 5 Minuten einwirken und spülen Sie sie dann ab.

Multimasking-Tipp: Ihre Haut spannt an den Wangen und glänzt an bestimmten Stellen.
Tragen Sie die Kaolin & Blumen Maske, die reinigt und entgiftet, auf die T-Zone (Stirn, Nase, Kinn) und die Intense Hydratation Mask auf die Wangen auf, um die Haut mit Feuchtigkeit zu versorgen und sie aufzupolstern.

Warnhinweis: Die Listen der Inhaltsstoffe, die in den Produkten enthalten sind, werden regelmäßig aktualisiert. Bevor Sie ein Produkt verwenden, lesen Sie bitte die Liste der Inhaltsstoffe auf der Verpackung, um sicherzustellen, dass die Inhaltsstoffe für Ihren persönlichen Gebrauch geeignet sind.

AQUA (WATER) / EAU, SQUALANE, GLYCERYL STEARATE, GLYCERIN, CETEARETH-20, PROPYLENE GLYCOL LAURATE, HYDROXYETHYL UREA, IMPERATA CYLINDRICA ROOT EXTRACT, CETEARETH-12, SESAMUM INDICUM (SESAME) SEED OIL, ANGELICA ARCHANGELICA ROOT EXTRACT, METHYLPROPANEDIOL, PROPYLENE GLYCOL, CARBOMER, CETEARYL ALCOHOL, CETYL PALMITATE, COCOGLYCERIDES, ETHYLHEXYLGLYCERIN, PARFUM (FRAGRANCE), CHLORPHENESIN, TOCOPHERYL ACETATE, CAPRYLHYDROXAMIC ACID, ETHYLCELLULOSE, PROPYLENE GLYCOL ISOSTEARATE, SODIUM HYALURONATE, SODIUM HYDROXIDE, O-CYMEN-5-OL, AMMONIUM LACTATE, DISODIUM EDTA, CITRIC ACID, CAPRYLYL GLYCOL, SOPHORA JAPONICAFLOWER EXTRACT, SODIUMCITRATE, PANAX GINSENGROOT EXTRACT, SODIUM BENZOATE, NELUMBO NUCIFERA FLOWER EXTRACT, POTASSIUM SORBATE, ACRYLATES/C10- 30 ALKYL ACRYLATE CROSSPOLYMER, BIOTIN, CITRUS AURANTIUM BERGAMIA (BERGAMOT) PEEL OIL, JUNIPERUS VIRGINIANA OIL, LINALOOL, LIMONENE, TETRAMETHYL ACETYLOCTAHYDRONAPHTHALENES, LINALYL ACETATE.