-
Erborian
-
Centella Cleansing Balm
-
Balsam do demakijazu 80 g
-
193,79 DKK
270,06 DKK
CENTELLA CLEANSING GEL to lagodny zel do codziennego mycia twarzy, który intensywnie oczyszcza, zapewniajac... Zobacz więcej
- Ekstrakt z Centella Asiatica (Centella Asiatica Extract): wlasciwosci kojace.
- Skwalan: pomaga nawilzac i chronic skóre przed utrata wody.
- Kompleks 7 ziól: wykazuje dzialanie kojace i wspomaga naturalna detoksykacje skóry.
Naniesc na wilgotna skóre twarzy, równiez na okolice oczu, i delikatnie wmasowac okreznymi ruchami. Obficie splukac.
Poznaj duet idealny do dwuetapowego oczyszczania twarzy!
Krok 1. CENTELLA CLEANSING OIL do demakijazu
Krok 2. CENTELLA CLEANSING GEL do intensywnego oczyszczania
Produkt testowany pod kontrola dermatologiczna i okulistyczna.
Ostrzeżenie: listy składników używanych w naszych produktach są regularnie aktualizowane. Przed użyciem jakiegokolwiek produktu należy zapoznać się z listą składników na opakowaniu, aby upewnić się, że składniki są odpowiednie do osobistego użytku.
Liste INCI :
AQUA/WATER -SODIUM METHYL COCOYL TAURATE -GLYCERIN -PENTYLENE GLYCOL -COCO-BETAINE -BUTYLENE GLYCOL -SODIUM CHLORIDE -CENTELLA ASIATICA EXTRACT –POLYGONUMCUSPIDATUM ROOT EXTRACT -CHAMOMILLA RECUTITA (MATRICARIA) FLOWER EXTRACT -ROSMARINUS OFFICINALIS (ROSEMARY) LEAF EXTRACT -GLYCYRRHIZAGLABRA (LICORICE) ROOTEXTRACT -CAMELLIA SINENSIS LEAF EXTRACT -SCUTELLARIA BAICALENSIS ROOT EXTRACT –ALLANTOIN-SQUALANE -ACRYLATES/C10-30 ALKYL ACRYLATE CROSSPOLYMER -POLYQUATERNIUM-7 -PEG-60 HYDROGENATED CASTOR OIL -POTASSIUM HYDROXIDE -ETHYLHEXYLGLYCERIN -CITRIC ACID -SODIUM BENZOATE -PARFUM/FRAGRANCE
Les listes d’ingrédients entrant dans la composition des produits de la marque Erborian sont régulièrement mises à jour. Avant d’utiliser un produit de la marque Erborian, veuillez lire la liste d’ingrédients située sur son emballage afin de vous assurer que les ingrédients sont adaptés à votre utilisation personnelle,.
Made in Korea
Wystąpił błąd, spróbuj ponownie
Coś poszło nie tak. Spróbuj ponownie później.